|
|
Установка ЭМ-5026АМ предназначена для совмещения изображений фотошаблона и пластины (подложки) и переноса изображения с фотошаблона на пластину (подложку) контактным (в зазоре) экспонированием фоторезистивного слоя пластины.
Установка оснащена автоматическими системами подачи пластины (подложки) из кассет, центрирования и ориентации по базовому срезу, предварительной точной ориентации и загрузки пластины на рабочий столик, компенсации клина и разнотолщинности пластин без контакта с фотошаблоном. Также предусмотрена возможность выхода на заданный оператором зазор совмещения, экспонирования фоторезистивного слоя на пластинах, выгрузки в приемную кассету, активации режима энергосбережения.
Технические характеристики
| Параметр | Значение |
|---|---|
| Диапазоны рабочих длин волн*, нм | 225-260; 280-335; 350-450 |
| Фотолитографическое разрешение, мкм | 0.4 ... 0.7 |
| Неравномерность освещенности рабочего поля ⌀110мм, % | ±2.5 |
| Случайная составляющая погрешности совмещения, мкм | ±0.1 |
| Диаметр обрабатываемых пластин*, мм | 50; 60; 76; 100; 60×48 |
| Размер фотошаблонов*, мм | 102×102, 127×127 |
| Чувствительность привода манипулятора совмещения:
- по X, Y, мкм; - по углу, секунд |
0.01 0.1 |
| Двупольный микроскоп с расщепленным полем и плавным изменением увеличения**
- с объективами ОМ 0.4/8 и окулярами 10х - с объективами ОМ 0.2/14 и окулярами 10х |
150х ... 480х
90х ... 250х |
| Потребляемая мощность, не более, Вт | 800 |
* Уточняется при заказе
** Одновременный вывод изображения с микроскопа на экран монитора